“在时代的浪潮中，总有一些企业以其独特的理念和不懈的努力，书写着属于自己的传奇。”

ENTERPRISE STORY

企业故事

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微纳（香港）科技

有限公司(MNT)

微纳（香港）科技有限公司(MNT)成立于2014年，总部设在中国香港，是一家专门从事半导体设备与科研设备代理的高科技公司，致力于为中国半导体，材料，机械，医学，汽车，航天等领域提供国际尖端的制造设备，检测设备及技术解决方案。

目前， 微纳（香港）科技有限公司（MNT）是多家欧美日韩仪器供应商在中国的代理商，主要负责相关设备在中国的销售，技术支持与售后服务， 产品涵盖多种晶圆减薄机、CMP化学机械抛光机、CMP后清洗机、晶圆颗粒度测量系统、磁控溅射镀膜系统、热蒸发镀膜系统，电子束蒸发镀膜系统，纳米压印系统、衍射器件光学参数测量系统，光学散射仪，晶圆厚度测量系统、晶圆翘曲度测量系统、晶圆平整度测量系统、膜厚测量仪，匀胶机、喷胶机、湿法台、临时键合/解键合机、热板、晶圆贴膜机、晶圆贴片机、扫描超声显微镜，共聚焦拉曼显微镜，原子力显微镜、光学轮廓仪、纳米压痕仪、微米压痕仪、纳米划痕仪、微米划痕仪、摩擦磨损试验机、快速退火炉、棱镜耦合仪等诸多产品，客户遍及中国各大高校、科研院所及著名半导体企业。

我司的服务理念是：

专业成就品质，

服务创造价值，

诚信铸就品牌！

展品推荐

德国SENTRONICS 晶圆厚度测试系统

样品尺寸：

4寸、6寸、8寸、12寸

采用红外光谱技术，要用于测量晶圆的厚度、TTV、Bow、Warp以及wafer上各层薄膜厚度；

采用白光干涉技术，可得到wafer表面的3D形貌，表面粗糙度，TSV等关键尺寸，测量范围为0-100um，分辨率为亚纳米水平。

韩国CTS CMP化学机械抛光系统

样品尺寸：

4寸、6寸、8寸、12寸

采用气囊加载模式，分区压力控制（8寸以下分3区，12寸分5区）；

抛光垫修整器分区控制修整（8寸以下分10区，12寸分13区）；

采用直驱线性电机，性能远远优于传统的伺服电机;

片内非均匀性WIWNU 1sigma，去边5mm< 5%;

片间非均匀性WTWNU 1sigma，去边5mm< 3%;

德国OSIRIS湿法台、CMP后清洗机、匀胶机、喷胶机、显影机、刻蚀机、热板

兼容：

2、4、6、8、12寸晶圆

手动/全自动（带机械臂/Cassette）可选；

极高的均匀性及稳定性（匀胶设备均匀性＜1%，湿法刻蚀设备均匀性＜3%）；

湿法刻蚀/清洗设备集成自动混液系统

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